Comparison of KTa0.65Nb0.35O3 ferroelectric thin films deposited by chemical solution and pulsed laser: impact on microwave responses - Université de Bretagne Occidentale
Communication Dans Un Congrès Année : 2010

Comparison of KTa0.65Nb0.35O3 ferroelectric thin films deposited by chemical solution and pulsed laser: impact on microwave responses

Domaines

Micro et nanotechnologies/Microélectronique

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https://hal.univ-brest.fr/hal-00488794

Soumis le : mercredi 2 juin 2010-22:07:34

Dernière modification le : jeudi 17 octobre 2024-11:46:04

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Dates et versions

hal-00488794 , version 1 (02-06-2010)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00488794 , version 1

Citer

Ling Yan Zhang, Quentin Simon, Paul Laurent, Noham Martin, Valérie Bouquet, et al.. Comparison of KTa0.65Nb0.35O3 ferroelectric thin films deposited by chemical solution and pulsed laser: impact on microwave responses. 19th International Symposium on the Applications of Ferroelectrics (ISAF), Aug 2010, Edinburgh, United Kingdom. ⟨hal-00488794⟩

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